Selective electroless nickel deposition on patterned phosphonate and carboxylate polymer films

Electroless metallization processes have been used to develop photopatterned films of poly(diisopropyl vinylbenzylphosphonate-co-N-methylmaleimide) and deposit metallic nickel selectively in the exposed regions of the films. A 100 A thick film of nickel provides an effective etch mask to the underly...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1996-02, Vol.143 (2), p.691-695
Hauptverfasser: SCHILLING, M. L, KATZ, H. E, HOULIHAN, F. M, STEIN, S. M, HUTTON, R. S, TAYLOR, G. N
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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