Selective electroless nickel deposition on patterned phosphonate and carboxylate polymer films
Electroless metallization processes have been used to develop photopatterned films of poly(diisopropyl vinylbenzylphosphonate-co-N-methylmaleimide) and deposit metallic nickel selectively in the exposed regions of the films. A 100 A thick film of nickel provides an effective etch mask to the underly...
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Veröffentlicht in: | Journal of the Electrochemical Society 1996-02, Vol.143 (2), p.691-695 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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