Instabilities in silicon devices, Volume 3, New insulators, devices and radiation effects

Silicon technology today forms the basis of a world-wide, multi-billion dollar component industry. The reason for this expansion can be found not only in the physical properties of silicon but also in the unique properties of the silicon-silicon dioxide interface. However, silicon devices are still...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Vapaille, André 1933- (HerausgeberIn), Barbottin, Gérard 1946- (HerausgeberIn)
Format: Elektronisch E-Book
Sprache:English
Veröffentlicht: 1999
Schlagworte:
Online-Zugang:DE-860
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