EUV lithography
"Extreme ultraviolet lithography (EUVL) is the principal lithography technology aiming to manufacture computer chips beyond the current 193-nm-based optical lithography, and recent progress has been made on several fronts: EUV light sources, optics, optics metrology, contamination control, mask...
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| Weitere Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Elektronisch E-Book |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Bellingham, Washington, USA
SPIE Press
[2018]
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| Ausgabe: | Second edition |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | DE-1050 DE-92 URL des Erstveröffentlichers |
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