Study of the N yield in a microwave plasma for the deposition of CNH materials measurement in the remote plasma, kinetic study and etching of a-C:H films by N atoms

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Douai, David 1969- (VerfasserIn)
Format:	Elektronisch E-Book
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2001
Schlagworte:	Stickstoffatom Quadrupolmassenspektrometrie Boltzmann-Gleichung Mikrowellenplasma Plasmaätzen Hochschulschrift
Online-Zugang:	http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/DouaiDavid/diss.pdf http://d-nb.info/963172050/34
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