Study of the N yield in a microwave plasma for the deposition of CNH materials measurement in the remote plasma, kinetic study and etching of a-C:H films by N atoms
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Elektronisch E-Book |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
2001
|
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/DouaiDavid/diss.pdf http://d-nb.info/963172050/34 |
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