The physics and chemistry of SiO 2 and the Si-SiO 2 interface - 4, 2000 proceedings of the Fourth International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-Sio2 Interface, Toronto, Canada, May 15 - 18, 2000

The physics and chemistry of SiO 2 and the Si-SiO 2 interface - 4, 2000 proceedings of the Fourth International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-Sio2 Interface, Toronto, Canada, May 15 - 18, 2000

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Pennington, NJ Electrochemical Soc. 2000
Schriftenreihe:Proceedings / Electrochemical Society 2000,2
Schlagworte:
Chimie des surfaces
Diélectriques - Surfaces
Silice - Surfaces
Surfaces (technologie)
Dielectrics > Surfaces > Congresses
Silica > Surfaces > Congresses
Silicon dioxide films > Congresses
Surface chemistry > Congresses
Surfaces (Technology) > Congresses
Grenzflächenchemie
Siliciumdioxid
Silicium
Konferenzschrift > 2000 > Toronto
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Wegen Wartungsarbeiten nicht verfügbar

Unser Bibliotheksverwaltungssystem ist momentan wegen Wartungsarbeiten nicht verfügbar.

Bestandes- und Verfügbarkeitsinformationen können momentan leider nicht angezeigt werden. Wir entschuldigen uns für die Umstände und stehen für weitere Fragen gerne zur Verfügung:

it.bib-wue@thws.de

Ähnliche Einträge