Materials, technology and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics symposium held April 23 - 27, 2000, San Francisco, California, U.S.A.

Materials, technology and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics symposium held April 23 - 27, 2000, San Francisco, California, U.S.A.

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Warrendale, Pa. Materials Research Soc. 2001
Schriftenreihe:Materials Research Society symposia proceedings 612
Schlagworte:
Dielectric films > Congresses
Integrated circuits > Materials > Congresses
Integrated circuits > Reliability > Congresses
Semiconductors > Junctions > Congresses
Semiconductors > Materials > Congresses
Halbleitergrenzfläche
Konferenzschrift > 2000 > San Francisco Calif.
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