The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) ; 20 - 24 September 1999, Osaka, Japan
Gespeichert in:
| Körperschaft: | |
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| Format: | Tagungsbericht Buch |
| Sprache: | Undetermined |
| Veröffentlicht: |
Amsterdam [u.a.]
Elsevier
2000
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| Schriftenreihe: | Vacuum
59,1 |
| Schlagworte: | |
| Tags: |
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| Beschreibung: | Einzelaufnahme eines Zeitschr.-H. |
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| Beschreibung: | 380 S. Ill., graph. Darst. |