The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) ; 20 - 24 September 1999, Osaka, Japan

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: International Symposium on Applied Plasma Science Osaka (VerfasserIn)
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: Amsterdam [u.a.] Elsevier 2000
Schriftenreihe:Vacuum 59,1
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