Die Rolle von Ionen und Radikalen bei der plasmagestützten Abscheidung amorpher wasserstoffhaltiger Kohlenstoffschichten = The role of ions and radicals in plasma enhanced deposition of amorphous hydrogenated carbon films
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| Veröffentlicht: |
Garching bei München
Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik
1995
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| Schriftenreihe: | Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9]
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