Die Rolle von Ionen und Radikalen bei der plasmagestützten Abscheidung amorpher wasserstoffhaltiger Kohlenstoffschichten = The role of ions and radicals in plasma enhanced deposition of amorphous hydrogenated carbon films

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Lange, Klaus (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Garching bei München Max-Planck-Inst. für Plasmaphysik 1995
Schriftenreihe:Max-Planck-Institut für Plasmaphysik <Garching, München>: [IPP-Bericht / 9] 106
Schlagworte:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Wegen Wartungsarbeiten nicht verfügbar

Unser Bibliotheksverwaltungssystem ist momentan wegen Wartungsarbeiten nicht verfügbar.

Bestandes- und Verfügbarkeitsinformationen können momentan leider nicht angezeigt werden. Wir entschuldigen uns für die Umstände und stehen für weitere Fragen gerne zur Verfügung:

it.bib-wue@thws.de