Untersuchung des niederfrequenten Rauschverhaltens und der Oberflächenrekombinationsgeschwindigkeit von MOS-Strukturen unter der Wirkung ionisierender Bestrahlung
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
München
ZLDI
1970
|
| Schriftenreihe: | Deutschland, Bundesminister für Bildung und Wissenschaft, Bundesrepublik: Forschungsbericht / Weltraumforschung
1970,23 |
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