Modeling of chemical vapor deposition of Tungsten films
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Basel ; Boston ; Berlin
Birkhäuser
1993
|
| Schriftenreihe: | Progress in numerical simulation for microelectronics
2 |
| Schlagworte: | |
| Tags: |
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