Untersuchungen zur SiF4‐Sorption an Kieselglaspulvern

Es wurde die Druck‐ und Temperaturabhängigkeit der Sorption von SiF4 an Kieselglaspulvern untersucht. Die Sorption setzt bei etwa 800 K ein. Von 800 K bis 1160 K nimmt der in 24 Stunden absorbierte SiF4‐Anteil mit der Temperatur zu. Bei konstanter Temperatur (880 K) wächst die absorbierte Menge mit dem Ausgangsdruck (2 kPa – 30 kPa). Die Desorption ist bei Temperaturen ≥ 1273 K experimentell nachweisbar und mit der Kristallisation des Kieselglaspulvers zu β‐Cristobalit verbunden. Studies on the Absorption of SiF4 at Silica Powders The absorption of SiF4 at silica powder was investigated in dependence on temperature and pressure. It starts at about 800 K. In the range of 800 K up to 1160 K the amount of SiF4 absorbed within 24 hours increases with temperature, and at a constant temperature (880 K) with the filling pressure of SiF4 (2 kPa–30 kPa). Desorption of SiF4 was proved experimentally at temperature above 1273 K. It is connected with crystallization of silica into β‐cristobalite.