Bulk Charging of Dielectric Films by Low Energy Electrons

Accumulation of space charges in metallized dielectric films irradiated by electrons of 30 to 65 keV energy is investigated using quasistationary approximation. Time dependent profiles of space charges and associated electric fields are calculated by numerical methods. There is a satisfactory agreement between theoretical and experimental data in initial stages of the charging process. Es wird die Akkumulation von Raumladungen in metallisierten, dielektrischen Schichten, die mit Elektronen von 30 bis 65 keV bestrahlt werden, mit der quasistationären Näherung untersucht. Zeitabhängige Profile der Raumladungen und damit verknüpften elektrischen Felder werden numerisch berechnet. Es existiert eine befriedigende Übereinstimmung zwischen theoretischen und experimentellen Werten im Anfangszustand des Aufladungsprozesses.