Das Verhalten von Trimethylphenoxysilanen bei Elektronenstoß

Der elektronenstoßinduzierte Abbau von Trimethylphenoxysilanen (H3C)3SiOC6H4R (R = H und Cl, Br, CH3, NH2, NO2 jeweils in ortho‐, meta‐und para‐Stellung) wird beschrieben. Die Hauptfragmentierunsreaktion besteht in der Abspaltung eines Methylradikals vom Molekülion. Für die Ausbeute dieser R...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal für Praktische Chemie 1971, Vol.313 (5), p.905-916
1. Verfasser:	Dube, Gunther
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!