Selbstkatalytische Atomlagenabscheidung von Siliciumdioxid

Selbstkatalytische Atomlagenabscheidung von Siliciumdioxid

Molekulare Selbstattacke: Dem Mythos nach kann sich der Skorpion selbst zu Tode stechen, und ganz ähnlich katalysiert 3‐Aminopropyltriethoxysilan seine eigene Hydrolyse in der Atomlagenabscheidung (ALD) von SiO2 zu dünnen Filmen und Nanostrukturen (siehe Bild). Die Wachstumsgeschwindigkeit pro ALD‐Z...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Angewandte Chemie 2008-08, Vol.120 (33), p.6272-6274
Hauptverfasser: Bachmann, Julien, Zierold, Robert, Chong, Yuen Tung, Hauert, Roland, Sturm, Chris, Schmidt‐Grund, Rüdiger, Rheinländer, Bernd, Grundmann, Marius, Gösele, Ulrich, Nielsch, Kornelius
Format: Artikel
Sprache:eng ; ger
Schlagworte:
Atomlagenabscheidung (ALD)
Dünne Filme
Nanoröhren
Siliciumdioxid
Templatsynthesen
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Beschreibung
Zusammenfassung:Molekulare Selbstattacke: Dem Mythos nach kann sich der Skorpion selbst zu Tode stechen, und ganz ähnlich katalysiert 3‐Aminopropyltriethoxysilan seine eigene Hydrolyse in der Atomlagenabscheidung (ALD) von SiO2 zu dünnen Filmen und Nanostrukturen (siehe Bild). Die Wachstumsgeschwindigkeit pro ALD‐Zyklus ist über einen breiten Temperaturbereich konstant. Die SiO2‐Filme sind chemisch und optisch rein, und Nanoröhren mit hohem Aspektverhältnis zeigen glatte Wände mit exakt einstellbarer Wandstärke.
ISSN:0044-8249
1521-3757
DOI:10.1002/ange.200800245