BN诱导BiOI富氧{110}面的暴露并增强其可见光催化氧化性能

BN诱导BiOI富氧{110}面的暴露并增强其可见光催化氧化性能

O643; 光催化剂的暴露晶面极大地影响其光催化性能.因此,本文以BiOI为模型材料,提出了一种提高材料光催化氧化性能的新策略.本文中,BN纳米片的成功复合诱导BiOI纳米片更倾向于暴露富含表面晶格氧原子的{110}晶面.表面晶格氧原子可以直接参与NO的氧化反应,生成NO2.可见光催化氧化NO性能测试表明,BiOl复合BN后,NO的去除率可达44.2％,相比于纯相BiOI(1.4％)提升接近30倍.本文通过构建2D/2D光催化剂来调控材料富氧晶面的暴露,为增强催化剂的光催化氧化性能提供了新的策略....

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Veröffentlicht in:物理化学学报 2021, Vol.37 (8), p.74-82
Hauptverfasser: 郑倩, 曹玥晗, 黄南建, 张瑞阳, 周莹
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:O643; 光催化剂的暴露晶面极大地影响其光催化性能.因此,本文以BiOI为模型材料,提出了一种提高材料光催化氧化性能的新策略.本文中,BN纳米片的成功复合诱导BiOI纳米片更倾向于暴露富含表面晶格氧原子的{110}晶面.表面晶格氧原子可以直接参与NO的氧化反应,生成NO2.可见光催化氧化NO性能测试表明,BiOl复合BN后,NO的去除率可达44.2％,相比于纯相BiOI(1.4％)提升接近30倍.本文通过构建2D/2D光催化剂来调控材料富氧晶面的暴露,为增强催化剂的光催化氧化性能提供了新的策略.
ISSN:1000-6818
DOI:10.3866/PKU.WHXB202009063