光诱导约束刻蚀体系中的TiO2纳米管阵列光电极上Cu的沉积及抑制

光诱导约束刻蚀可作为一种无应力的化学平坦化方法用于Cu的抛光。我们发现在光诱导约束刻蚀工件Cu的过程中，工具表面的Ti02纳米管上可能出现Cu沉积。通过扫描电子显微镜及其能谱，X射线光电子能谱等方法分析其沉积形貌和成分组成，探究在工具一工件之间的微纳尺度液层中Cu光催化还原沉积的机制，并在模拟液中研究Cu沉积对刻蚀体系的影响。探究引入搅拌、加入络合剂对Ti02纳米管表面Cu的沉积的抑制，并考察抑制措施对于工件Cu刻蚀的影响。结果表明Cu沉积会增强Ti02纳米管光电极的光催化性能，但随着沉积量的增加，增强机制会发生变化；在尝试抑制Cu沉积时也发现改善传质以抑NCu沉积的同时也会带来工件Cu的刻蚀增强；采用添加络合剂结合改善传质的方法有望在抑制Cu沉积的同时提高平坦化效果。所以抑制方法和条件的选择需兼顾对工具一工件之间微纳液层中的多个化学和传质过程的影响。这些研究对于进一步优化光诱导约束刻蚀体系及其在化学平坦化中的应用有重要的指导意义。