有机分子修饰铁粒子表面改善水基磁流变液的抗氧化性和稳定性

有机分子修饰铁粒子表面改善水基磁流变液的抗氧化性和稳定性

采用有机分子N-葡萄糖基乙二胺三乙酸（GED3A）修饰羰基铁（CI）粒子表面的方法,制备了复合磁性粒子（CMPs）和水基磁流变（MR）液;用扫描电镜（SEM）、振动样品磁强计（VSM）和带磁场供应和控制器的流变仪表征了CMPs及水基MR液的性能;同时,通过稳定性试验、空气氧化试验、酸腐蚀试验分别分析了水基MR液的分散稳定性和抗氧化性.结果表明,用此方法制备的CMPs具有良好的软磁性能,饱和磁化强度（Ms）为182.2emu·g^-1,矫顽力（Hc）为4.17Oe,剩磁（Mr）为0.1944emu·g^-1.与原CI粒子水基MR液比较,制备的水基MR液的沉降率下降了约24.4%;在酸的浓度为0....

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Veröffentlicht in:Wuli huaxue xuebao 2008, Vol.24 (10), p.1869-1874
1. Verfasser: 程海斌 王金铭 马会茹 侯鹏 官建国 张清杰
Format: Artikel
Sprache:chi
Schlagworte:
分散稳定性
复合磁性粒子
抗氧化性
水基磁流变液
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Beschreibung
Zusammenfassung:采用有机分子N-葡萄糖基乙二胺三乙酸（GED3A）修饰羰基铁（CI）粒子表面的方法,制备了复合磁性粒子（CMPs）和水基磁流变（MR）液;用扫描电镜（SEM）、振动样品磁强计（VSM）和带磁场供应和控制器的流变仪表征了CMPs及水基MR液的性能;同时,通过稳定性试验、空气氧化试验、酸腐蚀试验分别分析了水基MR液的分散稳定性和抗氧化性.结果表明,用此方法制备的CMPs具有良好的软磁性能,饱和磁化强度（Ms）为182.2emu·g^-1,矫顽力（Hc）为4.17Oe,剩磁（Mr）为0.1944emu·g^-1.与原CI粒子水基MR液比较,制备的水基MR液的沉降率下降了约24.4%;在酸的浓度为0.02-0.10mol·L^-1范围内,抗HCl氧化的能力提高了92.6%-95.7%,抗HNO3氧化的能力提高了86.1%-93.8%.
ISSN:1000-6818