CCl4的光解微观机制研究

O644; 利用激光光解瞬态吸收光谱技术,研究有氧和无氧条件下CCl4的激光光解.结果表明,在248nm激光作用下,CCl4发生了单光子吸收,反应生成{CCl4-Cl}σ电荷转移复合物、(CCl3+…Cl-)离子对、CCl3O2过氧自由基等瞬态物种,它们的衰减过程是表观一级反应.{CCl4-Cl}σ电荷转移复合物在有氧/无氧条件下的拟合衰减速率常数分别是3.38×106s-1和3.65×106s-1,它的形成不受氧气含量影响.(CCl3+…Cl-)离子对在有氧/无氧条件下的拟合衰减速率分别为3.73×107s-1和3.02×107s-1,它的形成也不受氧气含量影响,CCl3O2过氧自由基需在有...

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Veröffentlicht in:	物理化学学报 2004, Vol.20 (9), p.1099-1103
Hauptverfasser:	潘丹霞, 于勇, 董文博, 郑璐, 卢霄, 姚思德, 侯惠奇
Format:	Artikel
Sprache:	chi
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:	O644; 利用激光光解瞬态吸收光谱技术,研究有氧和无氧条件下CCl4的激光光解.结果表明,在248nm激光作用下,CCl4发生了单光子吸收,反应生成{CCl4-Cl}σ电荷转移复合物、(CCl3+…Cl-)离子对、CCl3O2过氧自由基等瞬态物种,它们的衰减过程是表观一级反应.{CCl4-Cl}σ电荷转移复合物在有氧/无氧条件下的拟合衰减速率常数分别是3.38×106s-1和3.65×106s-1,它的形成不受氧气含量影响.(CCl3+…Cl-)离子对在有氧/无氧条件下的拟合衰减速率分别为3.73×107s-1和3.02×107s-1,它的形成也不受氧气含量影响,CCl3O2过氧自由基需在有氧条件下形成,拟合衰减速率是2.32×104s-1.
ISSN:	1000-6818