直流电沉积Ni—Al2O3纳米阵列体系结构与性能

用直流电沉积的方法成功地将Ni金属填入了用二次腐蚀方法制备的氧化铝模板纳米级孔洞中,分别用电子显微镜、X射线衍射仪和振动样品磁强计对Ni阵列体系进行结构观察和磁性表征。结果表明,用二次腐蚀方法制景的多孔氧化铝模板的孔洞排布的有序性很高。被组装的Ni呈单晶结构并具有一定的择优取向;Ni-Al2O3阵列体系有明显的垂直磁各向异性,适用于垂直磁记录介质。...

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Veröffentlicht in:Wuli huaxue xuebao 2003, Vol.19 (3), p.265-267
1. Verfasser: 徐金霞 黄新民 等
Format: Artikel
Sprache:chi
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Beschreibung
Zusammenfassung:用直流电沉积的方法成功地将Ni金属填入了用二次腐蚀方法制备的氧化铝模板纳米级孔洞中,分别用电子显微镜、X射线衍射仪和振动样品磁强计对Ni阵列体系进行结构观察和磁性表征。结果表明,用二次腐蚀方法制景的多孔氧化铝模板的孔洞排布的有序性很高。被组装的Ni呈单晶结构并具有一定的择优取向;Ni-Al2O3阵列体系有明显的垂直磁各向异性,适用于垂直磁记录介质。
ISSN:1000-6818