直流电沉积Ni—Al2O3纳米阵列体系结构与性能
用直流电沉积的方法成功地将Ni金属填入了用二次腐蚀方法制备的氧化铝模板纳米级孔洞中,分别用电子显微镜、X射线衍射仪和振动样品磁强计对Ni阵列体系进行结构观察和磁性表征。结果表明,用二次腐蚀方法制景的多孔氧化铝模板的孔洞排布的有序性很高。被组装的Ni呈单晶结构并具有一定的择优取向;Ni-Al2O3阵列体系有明显的垂直磁各向异性,适用于垂直磁记录介质。...
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Veröffentlicht in: | Wuli huaxue xuebao 2003, Vol.19 (3), p.265-267 |
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1. Verfasser: | |
Format: | Artikel |
Sprache: | chi |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | 用直流电沉积的方法成功地将Ni金属填入了用二次腐蚀方法制备的氧化铝模板纳米级孔洞中,分别用电子显微镜、X射线衍射仪和振动样品磁强计对Ni阵列体系进行结构观察和磁性表征。结果表明,用二次腐蚀方法制景的多孔氧化铝模板的孔洞排布的有序性很高。被组装的Ni呈单晶结构并具有一定的择优取向;Ni-Al2O3阵列体系有明显的垂直磁各向异性,适用于垂直磁记录介质。 |
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ISSN: | 1000-6818 |