InP(110)解理面的能带弯曲

InP(110)解理面的能带弯曲

O6; 用XPS测得了真空解理后InP样品(110)表面能带弯曲的动态过程,并对引起InP表面能带弯曲的可能原因进行了讨论.排除了本征表面态、真空中残留气体和X射线辐射等原因,认为解理过程在表面产生的缺陷和解理后表面晶格弛豫产生的缺陷可能是导致能带弯曲的原因....

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Veröffentlicht in:物理化学学报 1999 (4), p.303-307
Hauptverfasser: 邓宗武, 郭伟民, 刘焕明, 曹立礼
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:O6; 用XPS测得了真空解理后InP样品(110)表面能带弯曲的动态过程,并对引起InP表面能带弯曲的可能原因进行了讨论.排除了本征表面态、真空中残留气体和X射线辐射等原因,认为解理过程在表面产生的缺陷和解理后表面晶格弛豫产生的缺陷可能是导致能带弯曲的原因.
ISSN:1000-6818