掺硼四面体非晶碳膜的微观结构及光谱表征

分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳（ta-C：B）膜，并用X射线光电子能谱（XPS）、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究．XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在，随着B含量的增加，sp^3杂化碳的含量逐渐减小，Ta-C：B膜的Raman谱线在含硼量较高时，其D峰和G峰向低频区偏移，且G峰的半峰宽变窄，表明B的引入促进了sp^2杂化碳的团簇化，减小了原子价键之间的变形，从而降低了薄膜的内应力．...

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Veröffentlicht in:	Wu ji cai liao xue bao 2008, Vol.23 (1), p.180-184
1. Verfasser:	张化宇檀满林韩杰才朱嘉琦贾泽纯
Format:	Artikel
Sprache:	chi
Schlagworte:	Raman光谱 XPS 四面体非晶碳（ta-C）
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:	分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳（ta-C：B）膜，并用X射线光电子能谱（XPS）、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究．XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在，随着B含量的增加，sp^3杂化碳的含量逐渐减小，Ta-C：B膜的Raman谱线在含硼量较高时，其D峰和G峰向低频区偏移，且G峰的半峰宽变窄，表明B的引入促进了sp^2杂化碳的团簇化，减小了原子价键之间的变形，从而降低了薄膜的内应力．
ISSN:	1000-324X
DOI:	10.3321/j.issn:1000-324X.2008.01.035