氩氧比对射频反应磁控溅射制备TiO_2薄膜亲水性能的影响

采用射频磁控溅射法制备了锐钛矿相TiO2薄膜,在基片温度、溅射功率、溅射时间以及靶材与基片间的距离等因素不变的情况下,研究不同氩氧分压比对薄膜亲水性能的影响。通过原子力显微镜（AFM）、X射线衍射光谱（XRD）表征了薄膜的微观表面形貌和晶相组成,采用静态接触角（SCA）评估薄膜的亲水性。实验结果表明不同氩氧比制备的锐钛矿相TiO2薄膜,紫外光照12 h后,接触角降到10o左右,而氩氧比小于等于5：5的接触角都低至5o左右,达到了超亲水性。氩氧分压比为4：6时,样品薄膜的光致亲水性最佳且光照后亲水性的保持较长。