硫化铜薄膜的发展现状及性能研究

硫化铜薄膜的发展现状及性能研究

TN304; 硫化铜薄膜是一种应用前景十分广阔,具有非常优异的光电性能的光电功能薄膜材料.文章介绍了不同的化学方法制备硫化铜薄膜的优缺点,并着重研究了在化学浴沉积法制备硫化铜薄膜过程中,不同的溶液配比对硫化铜薄膜性能的影响.实验结果表明,将0.03mol/L的硫酸铜溶液与0.02mol/L的柠檬酸三钠溶液络合搅拌,然后在向混合液中加入0.06mol/L的硫脲,在温度为80℃、pH值在8.5-8.8之间,沉积2.5H条件下,能够生长出镜面光滑、致密的硫化铜薄膜....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:科技创新与应用 2019 (31), p.43-45
1. Verfasser: 孙赟
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:TN304; 硫化铜薄膜是一种应用前景十分广阔,具有非常优异的光电性能的光电功能薄膜材料.文章介绍了不同的化学方法制备硫化铜薄膜的优缺点,并着重研究了在化学浴沉积法制备硫化铜薄膜过程中,不同的溶液配比对硫化铜薄膜性能的影响.实验结果表明,将0.03mol/L的硫酸铜溶液与0.02mol/L的柠檬酸三钠溶液络合搅拌,然后在向混合液中加入0.06mol/L的硫脲,在温度为80℃、pH值在8.5-8.8之间,沉积2.5H条件下,能够生长出镜面光滑、致密的硫化铜薄膜.
ISSN:2095-2945