一种制造半导体瀑布式蚀刻机设计及其应用研究
TN30; 该文首先提出了常见的玻璃表面蚀刻装置在蚀刻处理玻璃表面过程中的问题及事后蚀刻装置对玻璃不易清洗的问题,通过对蚀刻机重新设计,提出了制造半导体瀑布式蚀刻机的设计方案和运行过程,经验证明其满足玻璃蚀刻装置的要求,叙述了新型玻璃蚀刻装置结构设计所带来的有益效果,然后阐述了玻璃蚀刻机在工业方面和工艺方面的应用,最后提出了蚀刻机未来发展在蚀刻准确度、安全与环保方面仍然需要注意的问题....
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| Veröffentlicht in: | 科技资讯 2021, Vol.19 (36), p.13-15 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | chi |
| Online-Zugang: | Volltext |
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| Zusammenfassung: | TN30; 该文首先提出了常见的玻璃表面蚀刻装置在蚀刻处理玻璃表面过程中的问题及事后蚀刻装置对玻璃不易清洗的问题,通过对蚀刻机重新设计,提出了制造半导体瀑布式蚀刻机的设计方案和运行过程,经验证明其满足玻璃蚀刻装置的要求,叙述了新型玻璃蚀刻装置结构设计所带来的有益效果,然后阐述了玻璃蚀刻机在工业方面和工艺方面的应用,最后提出了蚀刻机未来发展在蚀刻准确度、安全与环保方面仍然需要注意的问题. |
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| ISSN: | 1672-3791 |
| DOI: | 10.16661/j.cnki.1672-3791.2110-5042-2168 |