基于层层自组装的CuTsPc／DPDCH纳米管的制备
在阳极多孔氧化铝模板中利用层层自组装技术制备出了高度有序的聚电解质磺化酞菁铜（CuTsPc）/4，4’-联吡啶盐酸盐（DPDCH）纳米管，并对其组装过程用UV—Vis，XRD和FT-IR进行了分析，纳米管的微观形貌通过SEM和TEM进行表征．结果表明，第一层CuTsPc和第二层DPDCH在AAO模板上的沉积平衡时间均约为60min，沉积过程主要有三个阶段：模板孔外的吸附过程、孔内扩散控制的沉积过程和孔内表面沉积控制过程．CuTsPc主要以磺酸根吸附于AAO模板上．CuTsPc／DPDCH纳米管为非晶态体系．CuTsPc／DPDCH纳米管的外径和壁厚分别为200和20nm，外径受控于AAO模板的...
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| Veröffentlicht in: | Hua hsüeh hsüeh pao 2007, Vol.65 (9), p.871-875 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | chi |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext |
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| Zusammenfassung: | 在阳极多孔氧化铝模板中利用层层自组装技术制备出了高度有序的聚电解质磺化酞菁铜（CuTsPc）/4，4’-联吡啶盐酸盐（DPDCH）纳米管，并对其组装过程用UV—Vis，XRD和FT-IR进行了分析，纳米管的微观形貌通过SEM和TEM进行表征．结果表明，第一层CuTsPc和第二层DPDCH在AAO模板上的沉积平衡时间均约为60min，沉积过程主要有三个阶段：模板孔外的吸附过程、孔内扩散控制的沉积过程和孔内表面沉积控制过程．CuTsPc主要以磺酸根吸附于AAO模板上．CuTsPc／DPDCH纳米管为非晶态体系．CuTsPc／DPDCH纳米管的外径和壁厚分别为200和20nm，外径受控于AAO模板的孔径，壁厚与组装的层数有关，利用此方法还可以制备其他带有相反电荷的有机小分子对纳米管或纳米线． |
|---|---|
| ISSN: | 0567-7351 |
| DOI: | 10.3321/j.issn:0567-7351.2007.09.017 |