聚乙烯咔唑／杂多阴离子杂化LB膜的制备、结构与光电性质

首次选用聚乙烯咔唑（PVK）、二十二烷酸（BA）与杂多阴离子用LB技术制备了五种有机/无机杂化LB膜，PVK/BA/HPC（HPC=Na5[PZ(H2O)Mo11O39]·5H2O，Z=Mn,Co,Cu,Zn,Ni)，用原子力显微镜（AFM），UV-vis，小角X射线衍射（LAXRD），表面光电压谱（SPS），荧光光谱等对LB膜的结构与性质进行了表征。结果表明：它们在空气/水界面有好的成膜性能，崩滞压为22-27mN/m，杂多阴离子作为一个单层夹在PVK和BA双层之间，PVK/BA/HPC LB膜的光致发光具有PVK激基缔合物的特征荧光，其光电压谱有较强的光电响应。