六氰合铁酸铜钴薄膜修饰铂电极的电化学、XRD及XPS研究

采用循环伏安法在铂电极上电聚合了六氰合铁酸铜钴薄膜，并用电化学，XRD和XPS对该薄膜进行了表征，研究表明此薄膜属于取代型的多核六氰合铁酸盐，由Cu^2+,Co^2+和Fe^2+共同占据晶格格点，通过改变Cu^2+,Co^2+和Fe^3+在沉积液中的比例可以改变聚合膜的性质，随沉积液中Cu^2+含量的增加，聚合膜中铜的含量相应增加而晶格常数则逐渐减小，但保持着面心立方晶格对称性，当沉积液中Cu^2+：Co^2+：Fe^2+＝1：1：2时，得到的集聚合膜具有比较典型的性质，该薄膜修饰的铂电极在PH4－10之间无能保持着稳定的电化学响应，其对一价阳离子的选择性顺序为K^+＞Li^+>Na^+,NH4^+，与单组分的六氰合铁酸铜和六氰合铁酸钴都存在着较大的差别，XPS实验表明，氧化态薄膜中铁元素Fe（Ⅲ）存在，并且在X射线的照射下很快转化为Fe（Ⅱ）。