有序中孔纳米多晶TiO2薄膜的Li^＋嵌脱行为
以三嵌段高分子非离子表面活性剂为结构导向剂，在非水条件下，合成了具有均一孔径分布（６．５ｎｍ）、高比表面积的稳定的中孔纳米多晶ＴｉＯ２薄膜。用循环伏安与电位阶跃技术研究了薄膜的Ｌｉ＾＋离子嵌入反应。结果表明，由非离子表面活性剂导向而成的中孔ＴｉＯ２薄膜具有较大的Ｌｉ＾＋离子嵌入容量，伏安特性中双电层电容效应非常显著，Ｌｉ＾＋离子在脱嵌过程中电荷传递系数在０．１５～０．４之间，嵌入系数为（４．７～５...
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| Veröffentlicht in: | Hua hsüeh hsüeh pao 2000, Vol.58 (10), p.1226-1229 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | chi |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext |
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| Zusammenfassung: | 以三嵌段高分子非离子表面活性剂为结构导向剂，在非水条件下，合成了具有均一孔径分布（６．５ｎｍ）、高比表面积的稳定的中孔纳米多晶ＴｉＯ２薄膜。用循环伏安与电位阶跃技术研究了薄膜的Ｌｉ＾＋离子嵌入反应。结果表明，由非离子表面活性剂导向而成的中孔ＴｉＯ２薄膜具有较大的Ｌｉ＾＋离子嵌入容量，伏安特性中双电层电容效应非常显著，Ｌｉ＾＋离子在脱嵌过程中电荷传递系数在０．１５～０．４之间，嵌入系数为（４．７～５ |
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| ISSN: | 0567-7351 |
| DOI: | 10.3321/j.issn:0567-7351.2000.10.010 |