具有优化倍增层InAlAs/InGaAs雪崩光电二极管

O436; 通过优化倍增层的厚度,研究了InAlAs/InGaAs雪崩光电二极管增益带宽积和暗电流之间的关系.利用仿真计算得出200 nm厚的倍增层能够改善增益带宽积并降低暗电流.制成的InAlAs/InGaAs雪崩光电二极管性能优异,与计算趋势一致.在获得0.85 A/W的高响应和155 GHz的增益带宽积的同时,器件暗电流低于19 nA.这项研究对雪崩光电二极管在未来高速传输的应用具有重要意义....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:红外与毫米波学报 2021, Vol.40 (6), p.715-720
Hauptverfasser: 顾宇强, 谭明, 吴渊渊, 卢建娅, 李雪飞, 陆书龙
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:O436; 通过优化倍增层的厚度,研究了InAlAs/InGaAs雪崩光电二极管增益带宽积和暗电流之间的关系.利用仿真计算得出200 nm厚的倍增层能够改善增益带宽积并降低暗电流.制成的InAlAs/InGaAs雪崩光电二极管性能优异,与计算趋势一致.在获得0.85 A/W的高响应和155 GHz的增益带宽积的同时,器件暗电流低于19 nA.这项研究对雪崩光电二极管在未来高速传输的应用具有重要意义.
ISSN:1001-9014
DOI:10.11972/j.issn.1001-9014.2021.06.002