弛豫铁电0.74Pb( Mg1/3Nb2/3)O3- 0.26PbTiO3薄膜的微结构和光学性能

O469; 采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb( Mg1/3 Nb2/3)O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500℃时制备的薄膜,不仅具有纯的钙钛矿结构,高度(110)择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化,大小为17.2 μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱,分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时,500℃沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外,薄膜的光学带隙在2.97～3.22 eV范围内.并初步讨论了这些薄膜的光学性能的差异....

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	红外与毫米波学报 2012, Vol.31 (4), p.289-293
Hauptverfasser:	田玥, 唐艳学, 周丹, 胡志娟, 王飞飞, 陈心满, 刘锋, 王涛, 谢东珠, 孙大志, 石旺舟, 胡古今, 孔伟金
Format:	Artikel
Sprache:	chi
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:	O469; 采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb( Mg1/3 Nb2/3)O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500℃时制备的薄膜,不仅具有纯的钙钛矿结构,高度(110)择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化,大小为17.2 μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱,分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时,500℃沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外,薄膜的光学带隙在2.97～3.22 eV范围内.并初步讨论了这些薄膜的光学性能的差异.
ISSN:	1001-9014
DOI:	10.3724/SP.J.1010.2012.00289