纳米金刚石薄膜的光学性能研究

纳米金刚石薄膜的光学性能研究

用热丝化学气相（HFCVD）法在硅衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜，用扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）观测薄膜的表面形貌和粗糙度，拉曼光谱表征膜层结构，紫外-可见光分光光度计测量其光透过率，并用椭圆偏振仪测试、建模、拟合获得了表征薄膜光学性质的n，k值．结果表明薄膜的晶粒尺寸在100nm以下，表面粗糙度仅为21nm；厚度为3．26（m薄膜在632．8nm波长处的透过率为25％，1100nm波长处达到50％．采用直接光跃迁机制估算得到纳米金刚石薄膜的光学能隙（Eg）为4．3eV．...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Hong wai yu hao mi bo xue bao 2006, Vol.25 (3), p.195-198
1. Verfasser: 蒋丽雯 王林军 刘健敏 阮建锋 苏青峰 崔江涛 吴南春 史伟民 夏义本
Format: Artikel
Sprache:chi
Schlagworte:
光学透过性
热丝化学气相法
纳米金刚石薄膜
表面粗糙度
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Beschreibung
Zusammenfassung:用热丝化学气相（HFCVD）法在硅衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜，用扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）观测薄膜的表面形貌和粗糙度，拉曼光谱表征膜层结构，紫外-可见光分光光度计测量其光透过率，并用椭圆偏振仪测试、建模、拟合获得了表征薄膜光学性质的n，k值．结果表明薄膜的晶粒尺寸在100nm以下，表面粗糙度仅为21nm；厚度为3．26（m薄膜在632．8nm波长处的透过率为25％，1100nm波长处达到50％．采用直接光跃迁机制估算得到纳米金刚石薄膜的光学能隙（Eg）为4．3eV．
ISSN:1001-9014
DOI:10.3321/j.issn:1001-9014.2006.03.009