自粘型聚硼硅氧烷复合材料性能
TQ333; 聚硼硅氧烷属于超分子材料,材料本身具备物理交联网络结构,具有耐高低温、耐候、电绝缘、自修复等特性,但现有方法制备的聚硼硅氧烷材料力学性能差,限制了其在一些领域的应用.本工作采用高分子量聚甲基乙烯基硅氧烷(VMQ)与硼酸(BA)在高温环境下反应,制备一种含乙烯基的聚硼硅氧烷,通过引入乙烯基结构和气相法白炭黑,经热硫化处理,得到具有表面自粘性的聚硼硅氧烷复合材料.测定聚硼硅氧烷复合材料的结构、动态力学性能、热稳定性、力学性能以及自粘性能,通过红外反射光谱确认B—O—Si结构.结果表明:聚硼硅氧烷复合材料的内部形成了B∶O动态键,材料表面具有一定的自粘性能,自粘形成的剥离强度能达到 4...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | 航空材料学报 2023-08, Vol.43 (4), p.122-128 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | chi |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | TQ333; 聚硼硅氧烷属于超分子材料,材料本身具备物理交联网络结构,具有耐高低温、耐候、电绝缘、自修复等特性,但现有方法制备的聚硼硅氧烷材料力学性能差,限制了其在一些领域的应用.本工作采用高分子量聚甲基乙烯基硅氧烷(VMQ)与硼酸(BA)在高温环境下反应,制备一种含乙烯基的聚硼硅氧烷,通过引入乙烯基结构和气相法白炭黑,经热硫化处理,得到具有表面自粘性的聚硼硅氧烷复合材料.测定聚硼硅氧烷复合材料的结构、动态力学性能、热稳定性、力学性能以及自粘性能,通过红外反射光谱确认B—O—Si结构.结果表明:聚硼硅氧烷复合材料的内部形成了B∶O动态键,材料表面具有一定的自粘性能,自粘形成的剥离强度能达到 4 N/cm,拉伸强度可达4.154 MPa,5%热失重温度为394.8℃,具有良好的力学性能和热稳定性. |
---|---|
ISSN: | 1005-5053 |
DOI: | 10.11868/j.issn.1005-5053.2023.000046 |