PbSe薄膜的表面腐蚀改性研究

采用磁控溅射法制备PbSe薄膜,并用配制的腐蚀液进行不同时间的表面处理,从而得到不同表面形貌的薄膜结构.利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和紫外-可见分光光度计（UV-Vis）对处理后的PbSe薄膜的表面形貌、晶体结构以及光学性能进行了表征,同时对薄膜的光电导性能进行测试.结果表明,薄膜经此工艺处理后,表面形成了一系列纳米陷光结构,并有着不同程度的氧化.不同腐蚀时间下,薄膜的光电导性能均有明显地提升,其中经3h腐蚀处理的薄膜的光电导性能提升最高.该方法无需进行后续热处理,是一种简单高效的敏化手段....

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Veröffentlicht in:	航空材料学报 2015, Vol.35 (1), p.20-24
1. Verfasser:	田野刘大博罗飞祁洪飞刘勇成波滕乐金
Format:	Artikel
Sprache:	chi
Schlagworte:	PbSe 敏化改性陷光结构
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:	采用磁控溅射法制备PbSe薄膜,并用配制的腐蚀液进行不同时间的表面处理,从而得到不同表面形貌的薄膜结构.利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和紫外-可见分光光度计（UV-Vis）对处理后的PbSe薄膜的表面形貌、晶体结构以及光学性能进行了表征,同时对薄膜的光电导性能进行测试.结果表明,薄膜经此工艺处理后,表面形成了一系列纳米陷光结构,并有着不同程度的氧化.不同腐蚀时间下,薄膜的光电导性能均有明显地提升,其中经3h腐蚀处理的薄膜的光电导性能提升最高.该方法无需进行后续热处理,是一种简单高效的敏化手段.
ISSN:	1005-5053
DOI:	10.11868/j.issn.1005-5053.2015.1.004