大功率负离子源铯注入对负离子产额影响的实验研究

大功率负离子源铯注入对负离子产额影响的实验研究

TL67; 铯注入可显著降低射频负离子源等离子体电极(Plasma Grid,PG)金属表面逸出功,促进H?离子的表面产生,是提高射频负离子源H?离子产额的有效手段.依托强流射频负离子源综合测试平台,以H?离子表面产生机制、铯注入作用机制为理论基础,以H?离子引出电流、电子引出电流及铯852 nm特征谱线相对强度等数据为依据;通过控制PG板温度和铯注入速率,本实验探究在铯注入条件下,PG板温度和铯注入速率对射频负离子源H?离子产额的影响作用.实验结果表明:铯注入可有效提高H?离子产额,且在当前实验条件下,PG温度在180～200℃范围时,H?离子转换速率最大;在铯注入温度为250℃/270℃时...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:核技术 2021-01, Vol.44 (1), p.89-94
Hauptverfasser: 王昊明, 胡纯栋, 陈世勇, 许永建, 潘军军, 韦江龙, 刘伟, 崔庆龙, 谢亚红, 谢远来, 梁立振
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:TL67; 铯注入可显著降低射频负离子源等离子体电极(Plasma Grid,PG)金属表面逸出功,促进H?离子的表面产生,是提高射频负离子源H?离子产额的有效手段.依托强流射频负离子源综合测试平台,以H?离子表面产生机制、铯注入作用机制为理论基础,以H?离子引出电流、电子引出电流及铯852 nm特征谱线相对强度等数据为依据;通过控制PG板温度和铯注入速率,本实验探究在铯注入条件下,PG板温度和铯注入速率对射频负离子源H?离子产额的影响作用.实验结果表明:铯注入可有效提高H?离子产额,且在当前实验条件下,PG温度在180～200℃范围时,H?离子转换速率最大;在铯注入温度为250℃/270℃时,约162 min后,H?离子转换速率达到动态平衡.
ISSN:0253-3219
DOI:10.11889/j.0253-3219.2021.hjs.44.010602