不同蒙特卡罗软件模拟中子深度剖面分析差异对比

不同蒙特卡罗软件模拟中子深度剖面分析差异对比

TL99; 中子深度剖面分析(Neutron depth profiling,NDP)技术在半导体生产、离子注入研究、材料科学等领域有广泛应用.为了探究NDP能谱分析中模拟软件的一致性与可靠性,本文对比了SRIM、MCNP、FLUKA和GEANT4等软件模拟NDP的结果;对比分析了4款模拟软件模拟的α粒子能谱,并以美国国家标准与技术研究院(National Institute of Standards and Technology,NIST)标准物质SRM2137实测谱为标准对模拟谱进行评价.结果表明:4款模拟软件所模拟的α能谱在2 μm厚晶体硅层内峰位能量一致性较好;MCNP模拟的半高宽和峰...

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Veröffentlicht in:核技术 2018-09, Vol.41 (9), p.16-20
Hauptverfasser: 徐僳, 张庆贤, 何庆驹, 吴涛, 张罡, 石丛, 孙坤, 肖云龙
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:TL99; 中子深度剖面分析(Neutron depth profiling,NDP)技术在半导体生产、离子注入研究、材料科学等领域有广泛应用.为了探究NDP能谱分析中模拟软件的一致性与可靠性,本文对比了SRIM、MCNP、FLUKA和GEANT4等软件模拟NDP的结果;对比分析了4款模拟软件模拟的α粒子能谱,并以美国国家标准与技术研究院(National Institute of Standards and Technology,NIST)标准物质SRM2137实测谱为标准对模拟谱进行评价.结果表明:4款模拟软件所模拟的α能谱在2 μm厚晶体硅层内峰位能量一致性较好;MCNP模拟的半高宽和峰位结果优于FLUKA和GEANT4的模拟结果.
ISSN:0253-3219
DOI:10.11889/j.0253-3219.2018.hjs.41.090203