电镀法制备裂变电离室电极铀膜

电镀法制备裂变电离室电极铀膜

O571.54; 裂变电离室电极镀铀(235 U)的均匀性、镀膜厚度和结合力是影响中子探测器灵敏度等性能关键所在,以无水乙醇为电镀液,铂丝为阳极,通过考察阴极镀件(铝管)处理工艺、pH 值、电流密度、电镀时间和镀液中U(Ⅵ)初始浓度对电镀效率及镀膜的影响,进而确定了电镀铀的最佳工艺参数.研究结果表明,当电流密度为 6.50 mA/cm2、电镀时间为 30 min、pH=2.6、极间距为 12 mm、镀液中 U(Ⅵ)初始质量浓度为 1.96 mg/mL时,电镀效率约达 92.4%,镀膜厚度可达 2.26 mg/cm2.采用 X 射线光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM-EDS)等对镀层进行了表...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:核化学与放射化学 2023-06, Vol.45 (3), p.224-231
Hauptverfasser: 葛孟团, 孙光智, 刘海峰, 肖伟, 赵东, 黄磊, 曾乐, 邱顺利, 江重祥, 孙祁
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:O571.54; 裂变电离室电极镀铀(235 U)的均匀性、镀膜厚度和结合力是影响中子探测器灵敏度等性能关键所在,以无水乙醇为电镀液,铂丝为阳极,通过考察阴极镀件(铝管)处理工艺、pH 值、电流密度、电镀时间和镀液中U(Ⅵ)初始浓度对电镀效率及镀膜的影响,进而确定了电镀铀的最佳工艺参数.研究结果表明,当电流密度为 6.50 mA/cm2、电镀时间为 30 min、pH=2.6、极间距为 12 mm、镀液中 U(Ⅵ)初始质量浓度为 1.96 mg/mL时,电镀效率约达 92.4%,镀膜厚度可达 2.26 mg/cm2.采用 X 射线光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM-EDS)等对镀层进行了表征.XPS表明 U以六价态的UO2+2 聚合物和四价态的二氧化铀(UO2)形式存在,且纯度较高.SEM显示镀层表面平整、致密.划痕法测试结果表明,镀层结合力一般.
ISSN:0253-9950
DOI:10.7538/hhx.2023.45.03.0224