盐酸浓度及煅烧温度对水热法制TiO2纳米管性能的影响
采用水热法制备了TiO2纳米管（TIN），利用TEM、XRD和N2吸附／脱附等温线对其进行了表征。考察了酸洗HCl浓度及煅烧温度对TIN微结构及光催化活性的影响，以甲基橙为模型化合物对TIN的光催化活性进行了评价。结果表明，随HCl浓度升高（0.001-0.1mol／L），TIN样品中Na含量下降（7.25％-0，ω），高HCl浓度洗涤会破坏TIN纳米管结构；TIN比表面积和孔容均随煅烧温度升高而下降，最高值分别为353m^2／g和1.70cm^3／g。煅烧温度还影响TIN中金红石相含量及结晶度。两因素对TIN光催化活性的影响可以通过其比表面积、孔容变化及锐钛矿相含量与结晶度来阐释。TIN对甲...
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| Veröffentlicht in: | Guo cheng gong cheng xue bao 2008, Vol.8 (5), p.978-982 |
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| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
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| Schlagworte: | |
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| creator | 周利民 朱霞萍 黄群武 |
| description | 采用水热法制备了TiO2纳米管（TIN），利用TEM、XRD和N2吸附／脱附等温线对其进行了表征。考察了酸洗HCl浓度及煅烧温度对TIN微结构及光催化活性的影响，以甲基橙为模型化合物对TIN的光催化活性进行了评价。结果表明，随HCl浓度升高（0.001-0.1mol／L），TIN样品中Na含量下降（7.25％-0，ω），高HCl浓度洗涤会破坏TIN纳米管结构；TIN比表面积和孔容均随煅烧温度升高而下降，最高值分别为353m^2／g和1.70cm^3／g。煅烧温度还影响TIN中金红石相含量及结晶度。两因素对TIN光催化活性的影响可以通过其比表面积、孔容变化及锐钛矿相含量与结晶度来阐释。TIN对甲基橙的光催化活性次序为TIN-0.01（HCl 0.1mol／L）〉TIN-0.1（HCl 0.1mol／L）〉TIN-0.001（HCl 0.001mol／L）；最大表观反应速率常数分别为0.84（TIN-0.01），0.55（TIN-0.1）和0.30h^-1（TIN-0.001）。 |
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