盐酸浓度及煅烧温度对水热法制TiO2纳米管性能的影响
采用水热法制备了TiO2纳米管(TIN),利用TEM、XRD和N2吸附/脱附等温线对其进行了表征。考察了酸洗HCl浓度及煅烧温度对TIN微结构及光催化活性的影响,以甲基橙为模型化合物对TIN的光催化活性进行了评价。结果表明,随HCl浓度升高(0.001-0.1mol/L),TIN样品中Na含量下降(7.25%-0,ω),高HCl浓度洗涤会破坏TIN纳米管结构;TIN比表面积和孔容均随煅烧温度升高而下降,最高值分别为353m^2/g和1.70cm^3/g。煅烧温度还影响TIN中金红石相含量及结晶度。两因素对TIN光催化活性的影响可以通过其比表面积、孔容变化及锐钛矿相含量与结晶度来阐释。TIN对甲...
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Veröffentlicht in: | Guo cheng gong cheng xue bao 2008, Vol.8 (5), p.978-982 |
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1. Verfasser: | |
Format: | Artikel |
Sprache: | chi |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | 采用水热法制备了TiO2纳米管(TIN),利用TEM、XRD和N2吸附/脱附等温线对其进行了表征。考察了酸洗HCl浓度及煅烧温度对TIN微结构及光催化活性的影响,以甲基橙为模型化合物对TIN的光催化活性进行了评价。结果表明,随HCl浓度升高(0.001-0.1mol/L),TIN样品中Na含量下降(7.25%-0,ω),高HCl浓度洗涤会破坏TIN纳米管结构;TIN比表面积和孔容均随煅烧温度升高而下降,最高值分别为353m^2/g和1.70cm^3/g。煅烧温度还影响TIN中金红石相含量及结晶度。两因素对TIN光催化活性的影响可以通过其比表面积、孔容变化及锐钛矿相含量与结晶度来阐释。TIN对甲基橙的光催化活性次序为TIN-0.01(HCl 0.1mol/L)〉TIN-0.1(HCl 0.1mol/L)〉TIN-0.001(HCl 0.001mol/L);最大表观反应速率常数分别为0.84(TIN-0.01),0.55(TIN-0.1)和0.30h^-1(TIN-0.001)。 |
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ISSN: | 1009-606X |
DOI: | 10.3321/j.issn:1009-606X.2008.05.028 |