ReS2薄膜的超快载流子动力学和太赫兹发射研究

ReS2薄膜的超快载流子动力学和太赫兹发射研究

O433; 基于超快时间分辨光谱实验手段,研究了化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)生长的ReS2薄膜的超快载流子动力学和太赫兹发射.分别利用光泵浦探测和光泵浦太赫兹发射两套系统对ReS2薄膜进行了测试,结果表明:ReS2薄膜具有超快的载流子热化过程和亚纳秒量级的复合过程;在飞秒激光泵浦下能够产生频谱宽度为2.5 THz的太赫兹辐射.通过分析太赫兹辐射随泵浦光入射角改变而出现极性相反的现象,得出ReS2薄膜产生太赫兹辐射的主要机制为表面场效应.研究结果不仅有助于理解ReS2薄膜对超快激光脉冲的瞬态响应,而且为太赫兹光子器件(如太赫兹发射器等)的研究设计提供...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:光学仪器 2022, Vol.44 (1), p.35-41
Hauptverfasser: 吴鑫程, 刘凡, 金钻明, 游冠军
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:O433; 基于超快时间分辨光谱实验手段,研究了化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)生长的ReS2薄膜的超快载流子动力学和太赫兹发射.分别利用光泵浦探测和光泵浦太赫兹发射两套系统对ReS2薄膜进行了测试,结果表明:ReS2薄膜具有超快的载流子热化过程和亚纳秒量级的复合过程;在飞秒激光泵浦下能够产生频谱宽度为2.5 THz的太赫兹辐射.通过分析太赫兹辐射随泵浦光入射角改变而出现极性相反的现象,得出ReS2薄膜产生太赫兹辐射的主要机制为表面场效应.研究结果不仅有助于理解ReS2薄膜对超快激光脉冲的瞬态响应,而且为太赫兹光子器件(如太赫兹发射器等)的研究设计提供了重要参考.
ISSN:1005-5630
DOI:10.3969/j.issn.1005-5630.2022.01.006