BEPCⅡ直线注入器重大改进进展

BEPCⅡ是"工厂"型的高亮度正负电子对撞机.它要求其直线注入器提供高能(1.89 GeV)和强流(40 mA e+,300 mA e-)的正负电子束以实现全能量注入和高注入速率(50 mA/min.e+),并要求直线注入器出口正负电子束的发射度低(1.6πmm·mrad e+,0.2πmm·mrad e-)、能散小(±0.5%)以满足储存环接受度的要求.因此,必须对现有BEPC的直线注入器作重大改进,包括新电子枪及其束流调整系统、新正电子源及其磁号装置、新微波功率源及其相位控制系统、新的束流轨道和光路调整系统等.这些新系统和装置大多已完成了设计、研制、测试和试组装等,将在...

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Veröffentlicht in:高能物理与核物理 2004, Vol.28 (11), p.1214-1218
Hauptverfasser: 裴国玺, 孙耀霖, 池云龙, 王书鸿
Format: Artikel
Sprache:chi
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:BEPCⅡ是"工厂"型的高亮度正负电子对撞机.它要求其直线注入器提供高能(1.89 GeV)和强流(40 mA e+,300 mA e-)的正负电子束以实现全能量注入和高注入速率(50 mA/min.e+),并要求直线注入器出口正负电子束的发射度低(1.6πmm·mrad e+,0.2πmm·mrad e-)、能散小(±0.5%)以满足储存环接受度的要求.因此,必须对现有BEPC的直线注入器作重大改进,包括新电子枪及其束流调整系统、新正电子源及其磁号装置、新微波功率源及其相位控制系统、新的束流轨道和光路调整系统等.这些新系统和装置大多已完成了设计、研制、测试和试组装等,将在今年的春夏安装于隧道,并期望在年底前获得正负电子束.
ISSN:0254-3052
DOI:10.3321/j.issn:0254-3052.2004.11.017