Ag对TDDI结构电容值的影响研究

本文主要研究了Ag(银)胶涂覆对TDDI结构的电容值的影响,Ag胶的主要作用是导通CF层与TFT层(ITO)防止静电产生,避免静电累积在Cell盒内导致画面显示异常。研究表明Ag胶易渗入到Cell盒内与BM接触,使BM与外围的GND接地,与COM形成压差,导致电容值偏大。本研究为后续优化Ag胶工艺,控制Ag胶的大小及位置提供参考方向。...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:电子世界 2017 (22), p.105-107
Hauptverfasser: 占小奇, 钱志禹, 李艳平, 孙勇, 陈平, 陈徐通, 贾博超
Format: Magazinearticle
Sprache:chi
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:本文主要研究了Ag(银)胶涂覆对TDDI结构的电容值的影响,Ag胶的主要作用是导通CF层与TFT层(ITO)防止静电产生,避免静电累积在Cell盒内导致画面显示异常。研究表明Ag胶易渗入到Cell盒内与BM接触,使BM与外围的GND接地,与COM形成压差,导致电容值偏大。本研究为后续优化Ag胶工艺,控制Ag胶的大小及位置提供参考方向。
ISSN:1003-0522