双向脉冲无氰镀银工艺研究
对无氰镀银工艺参数进行了优选,得出最佳双向脉冲参数如下:正向脉宽为1ms,占空比为10%,电流密度为0.8A/dm^2,工作时间为100ms;反向脉宽为1ms,占空比为5%,电流密度为0.2A/dm^2,工作时间为20ms,同时施加一与电场方向正交的磁场。在最佳工艺参数下得到的银镀层镜面光亮,与单向脉冲镀银和直流镀银相比,抗变色性和耐蚀性均显著提高,并通过扫描电镜观察了镀层的表面形貌。...
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Veröffentlicht in: | Cai liao bao hu 2005, Vol.38 (7), p.21-24 |
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1. Verfasser: | |
Format: | Artikel |
Sprache: | chi |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | 对无氰镀银工艺参数进行了优选,得出最佳双向脉冲参数如下:正向脉宽为1ms,占空比为10%,电流密度为0.8A/dm^2,工作时间为100ms;反向脉宽为1ms,占空比为5%,电流密度为0.2A/dm^2,工作时间为20ms,同时施加一与电场方向正交的磁场。在最佳工艺参数下得到的银镀层镜面光亮,与单向脉冲镀银和直流镀银相比,抗变色性和耐蚀性均显著提高,并通过扫描电镜观察了镀层的表面形貌。 |
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ISSN: | 1001-1560 |
DOI: | 10.3969/j.issn.1001-1560.2005.07.007 |