Method for detecting a particle in a nanoimprint lithography system

A method for detecting a particle between a nanoimprint mold assembly and a substrate in a nanoimprint lithography system.

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schumaker, Philip D
Format: Patent
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method for detecting a particle between a nanoimprint mold assembly and a substrate in a nanoimprint lithography system.