Characterization of Ni(Si,Ge) films formed using microwave heating

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied physics letters 2012, Vol.101, p.092101
Hauptverfasser:	Hu, Cheng, Xu, Peng, Fu, Chaochao, Zhu, Zhiwei, Gao, Xindong, Jamshidi, Asghar, Noroozi, Mohammad, Radamson, Henry, Wu, Dongping, Zhang, Shi-Li
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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