Erratum: ‘‘Hollow cathode enhanced capacitively coupled plasmas in Ar/N2/H2 mixtures and implications for plasma enhanced ALD” [J. Vac. Sci. Technol. B 40, 044002 (2022)]

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics Nanotechnology & microelectronics, 2022-09, Vol.40 (5)
Hauptverfasser:	Boris, David R., Johnson, Michael J., Eddy, Charles R., Walton, Scott G.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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