Publisher's Note: “Molecular dynamics simulations of Si etching in Cl- and Br-based plasmas: Cl+ and Br+ ion incidence in the presence of Cl and Br neutrals” [J. Appl. Phys. 118, 233304 (2015)]

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of applied physics 2016-02, Vol.119 (5)
Hauptverfasser:	Nakazaki, Nobuya, Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Molecular dynamics Plasmas
Online-Zugang:	Volltext
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