A New Strategy of Lithography Based on Phase Separation of Polymer Blends
Herein, we propose a new strategy of maskless lithographic approach to fabricate micro/nano-porous structures by phase separation of polystyrene (PS)/Polyethylene glycol (PEG) immiscible polymer blend. Its simple process only involves a spin coating of polymer blend followed by a development with de...
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Veröffentlicht in: | Scientific reports 2015-10, Vol.5 (1), p.15947, Article 15947 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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